一、產品簡介

高壓水清洗去汙是以水為工作介質,噴出的高壓水射流切向或正向衝擊被清洗物體(工件)表麵,當高壓水射流的衝擊力大於汙染物與物體表麵的附著力時,即可將汙染物清除。目前高壓水清洗去汙技術已廣泛的應用到石油,冶金,航空,建築
、核工業、化工等領域。針對放射性汙染去汙的高壓水清洗去汙裝置主要由不同壓力的高壓水發生裝置和專用操作工裝組成。

二、應用領域

1.適用於密閉核設施,如反應堆水池、廢水池、手套箱、熱室、工作箱等放射性表麵汙染內壁的在線去汙作業(需配套在線清洗去汙專用工裝);

2.適用於在役放射性汙染設備
、管道離線去汙作業(需配套離線清洗去汙專用操作氣帳);

3.適用於核設施退役期間汙染部件的離線去汙作業(需配套離線清洗去汙專用操作氣帳);4.適用於核設施退役期間深度去汙工藝,如化學浸泡去汙、電解去汙、超聲波去汙等後續的漂洗去汙作業(需配套離線清洗去汙專用操作氣帳)。

三、主要技術指標

1.對於鬆散型放射性表麵汙染,去汙後可達標準規定的清潔解控水平以下。

2.主要技術參數

·流量:10L/min~40L/min;

·最高工作壓力:10MPa~150MPa;

·電源:380V/50HZ。

四
、產品特點

1.係統組成靈活,對於不同的場景,可設計不同的解決方案;

2.可選擇的壓力範圍廣(10MPa~150MPa),對於在役設備的去汙,可選擇合適的工作壓力使得去汙對設備表麵的損傷在可接受範圍內;

3.可以對形狀和結構複雜的部件進行去汙,且去汙後無需進一步漂洗。