一、產品簡介

benchanpinshijiyuchuantongdefanyingduizaoshengfenxijishu，jiehexiandaixinhaofenxichulijishuyanzhidexianchangceliangcilinjiedudexitong

，tongguoyigekeyidingshidezhongziyuanqudongsuoyaoceliangdehexitong，celiangyuanxinhaoheyoufaliebianxin號之間的相關性和功率譜密度，結合模擬結果的修正得出核係統的次臨界度（keff）。

本產品可在現場直接測量得到次臨界度
，填補了目前國內尚沒有可以直接測量keff的方法的空白
，特別適用於不能達到臨界的係統。

二、應用領域

本係統適用於各種涉及核材料的處理、儲存、運輸過程的臨界安全監控和評估，包括金屬和液態係統、鈾和鈈係統。適用於以下多種場景：燃料前處理和處理設施的監控、燃料儲存設施
，乏燃料儲存設施等。另外本係統可為次臨界基準評估工作提供校驗用實驗數據。

三、主要技術指標

本係統目前在研製階段
，已實現了在keff為0.99附近的完整測量
，期望達到的指標為：

• keff測量範圍為0.7～0.99。當keff為0.9時
  
  ，不確定度小於1％
  ；
• 對於液態係統，最快測量時間達到1min，測量下限可達keff為0.5。

四
、產品特點

1、可直接測量次臨界度，不需要係統達到臨界狀態用來標定
；

2
、測量結果與中子源強度和探測器的效率無關，不需要對測量過程中儀器條件漂移做修正；

3
、測量對象適用範圍廣
，包括均勻和非均勻係統，連續和分立陣列係統
，金屬和溶液係統，以及帶各種反射層材料的係統。